Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd

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Materiais de gravura semicondutores/wafer

C4F6 hexafluoro-1 3-butadieno 4n agente

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C4F6 CAS: 685-63-2 hexafluoro-1 3-butadieno 99,99% 4n Agente de gravação de chips Uso do produto O hexafluoro-1,3-butadieno (C 4 F 6 ) é uma espécie de gás incolor, inodoro e insolúvel em água. À temperatura e pressão normais, seu ponto de fusão é...
NF3 Nitrogênio Trifluoreto de alta pureza

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NF3 Nitrogênio Trifluoreto CAS: 7783-54-2 99,5% Alta pureza para eletrônico Gravura de gás especial Uso do produto O trifluoreto de nitrogênio (NF3) é uma espécie de gás estável incolor, inodoro e de caracteres, também é um tipo de oxidante forte....
Hidrogênio fluoreto hf hight pureza

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Fluoreto de hidrogênio CAS: 7664-39-3 HF 99,999% Hight Purity para materiais de gravação de wafer Uso do produtoO fluoreto de hidrogênio (IC), também conhecido como ácido hidrofluórico, tem um peso molecular de 20,01 e é um líquido incolor e...
Schwefeltetrafluorid sf4 2n para gravação de plasma

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Schwefeltetrafluorid CAS: 7783-60-0 SF4 99% 2n para gravação de plasma e intermediário médico Uso do produto O agente de fluorinação orgânica SchwefelTetrafluorid (SF4) é um agente seletivo de fluorinação orgânica. O tetrafluoreto de enxofre causará...
Perfluoropropano semicondutor Etquante C3F8 High Purity 5N

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Perfluoropropano CAS: 76-19-7 ETIVAÇÃO DE SEMICONDUTOR C3F8 Alta pureza 99.999% 5N Materiais de gravação de chips Introdução ao produto O perfluoropropano (C 3 F 8 ) é uma espécie de gás inerte incolor, inodoro e não inflamável. À temperatura e...
Iodotrifluorometano 99,99% 4n CF3i High Purer

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Iodotrifluorometanecas2314-97-8 99,99% 4n CF3i High Purity para os semicondutores de materiais de processo Uso do produto O iodotrifluorometano pode ser usado como gás de gravação semicondutores, isolamento de equipamentos elétricos e arco que...
C3F8 Octafluoropropano de alta pureza de materiais de gravação de wafer

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C3F8 octafluoropropano CAS: 76-19-7 99,999% Materiais de gravura de alta pureza Uso do produto O difluoreto de xenônio se decompõe em soluções neutras ou alcalinas e é relativamente estável em soluções ácidas. A solução aquosa tem um odor pungente....
Xenon difluoreide xef2 para gravação semicondutores

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Xenon Difluoreide CAS: 13709-61-0 XEF2 99,9% 3N para gravação de semicondutores Uso do produto O difluoreto de xenônio se decompõe em soluções neutras ou alcalinas e é relativamente estável em soluções ácidas. A solução aquosa tem um odor pungente....

China Materiais de gravura semicondutores/wafer Fornecedores

A inovação dos materiais de gravação do ZSEM atende aos requisitos desafiadores de crescimento contínuo e agora uma variedade de gases que contêm fluorina de alta pureza podem ser produzidos para servir fábricas de chip e fazer chips de bolas de tamanho cada vez menor.

O gás de gravação fabricado por nossa empresa é geralmente gás de fluoreto, incluindo tricloreto de boro 11, butadieno perfluoro, fluoreto de carbonil, trifluoroiodometano, xenônio difluoreto, puropropano de nitrogênio, trimestregenidade, teto de carbono.

  • Produção de enzimas convencionais
    A produção de enzimas convencionais é produzida principalmente manualmente, faturada manual, fermentação manual, a empresa a cada etapa do processo é usada tecnologia e equipamento auto-desenvolvido para automatizar a produção. Além disso, a produção de enzimas convencionais adotou uma tecnologia de fermentação, a enzima geralmente tem desconforto, azedo e outras questões, produzi usando uma variedade de enzimas, probióticos compostos de tecnologia de fermentação, fermentação em diferentes momentos com diferentes cepas e duas ou três vezes até Fermentação, enzimas como sabor puro, nutrientes equilibrados da estreptozotocina.
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